Các sản phẩm

Quá trình tổng hợp các hạt nano vàng trên bề mặt đã được thực hiện bằng cách ủ màng poly(dimethylsiloxane) (PDMS) trong axit tetrachloroauric(III) và dung dịch chitosan ở nhiệt độ phòng và 4 độ C. Một điểm quan trọng trong nghiên cứu này là quá trình tổng hợp có chọn lọc xảy ra trên bề mặt PDMS.Những quan sát này về cơ bản khác với phản ứng trong dung dịch, trong đó không có hạt nào có thể được hình thành ở nhiệt độ phòng.Việc tính toán các dải plasmon bề mặt (SPB) dựa trên lý thuyết Mie cho thấy rằng các hạt được bao phủ một phần bởi các phân tử chitosan và kết quả thực nghiệm xác nhận các tính toán lý thuyết.Cơ chế được đề xuất là các phân tử chitosan được hấp phụ hoặc in trên bề mặt PDMS đóng vai trò là chất khử/ổn định.Hơn nữa, các màng PDMS được tạo khuôn bằng chitosan có thể tạo ra sự tổng hợp cục bộ của các hạt nano vàng ở những vùng chỉ phủ chitosan.Bằng cách này, các mẫu keo được chế tạo trên các bề mặt có tính chọn lọc không gian cao đồng thời với quá trình tổng hợp các hạt.Quá trình dập tắt huỳnh quang do bề mặt gây ra cũng được quan sát thấy ở những vùng phủ đầy hạt nano vàng.